AE插件-BAO Mask Avenger 2.7.5 Win 三维路径遮罩顶点切线控制插件

插件简介

BAO Mask Avenger 能够制作三维路径动画，并且可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点。使用After Effects中的BAO Mask Avenger插件分别控制蒙版顶点（和切线）。

版本2的新功能

• 公羊预览养护。先前版本的最大问题是
• 该插件使Ram预览无效。Mask Avenger 2.0新的烘焙系统避免了这种情况。
• 3D遮罩。遮罩复仇者现在可以在3D模式下控制遮罩，而无需使用空图层和表达式。
• 然后可以更快地计算掩码，并简化表达式编写。
• 背景烘烤。当需要修改蒙版时，Mask Avenger将在
• 当前时间立即对其进行转换，并在后台烘焙其余的工作区域。这意味着您可以
• 在Mask Avenger忙于烘烤的同时继续工作。这取代了“动态”和“烘烤”模式。
• 更好的形状图层兼容性。新的烘焙
• 系统消除了与“动态”模式有关的错误。
• 工作区域和图层的持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。当然，
• 烘烤100,000个关键帧所花费的时间超过10个，但是新的烘烤系统使您可以
• 在烘烤时继续工作。
• 不再需要Mask Renderer。面具复仇者现在使用AE自身的遮罩功能，并且运行速度更快。
• 蒙版预览。Mask avenger 2.0具有预览系统，可在更改
• 应用到遮罩之前动态地向您显示更改。当通过表达式，其他图层或摄影机修改蒙版时，这可以避免延迟。

分别控制每个蒙版顶点

• 关键帧，缓动，表达式和3D空间。
• 您可以选择仅使用顶点，也可以完全控制切线。
• 集成脚本将帮助您进行表达式并将蒙版点链接到Null图层。
• 通过简单的“鞭打”表达式将蒙版顶点链接到跟踪器点。
• 使用“冻结”模式与没有Mask Avenger的用户共享您的项目。
• 智能插值模式：基于重心或独立关键帧锚点的体积节省。
• 与“自由变换”蒙版工具集成。
• 遮罩读取器：读取沿遮罩路径的任何点的位置和方向数据。
• 形状复仇者：应用“面具复仇者”来塑造图层。
• Mask Avenger是本机After Effects插件。

更新内容

2.7.5更新内容：Fixed a M1 compatibility issue (Mac)

版本支持

适用Win系统

AE 2023, 2022, 2021, 2020, CC 2019, CC 2018, CC 2017,CC 2015, CC 2014, CC, CS6

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